离子蚀刻机综述

SPI Plasma-Prep 是一种结构紧凑、“长形工作台”形的等离子蚀刻机;它采用干式等离子体化学处理技术处理扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)的各部件。这种室温下的等离子蚀刻处理具有选择性和轻柔性,在EM实验室能应用于多种学科,包括生命科学 、材料学、电子学、AEM、电子显微镜学和故障分析及石棉样品制备*等。此外,它还可以作为等离子灰化机和等离子清洁器使用;也广泛应用于显微镜载片(包括玻璃载片和石英载片)的清洗和各种不同类型分光镜的传输室清洗。 • 排气控制阀——便于操作人员准确地控制箱内气体排出速率,以避免气流冲击破坏样品和箱内不同样品的交叉污染;此外,控制阀位于蚀刻机箱内,可以避免误操作。 低温处理——适于处理块状样品,且灰化有机物时不至于破坏样品的精细结构。 非平整表面/结合力强的基底——高电压/高功率长时间持续处理。 设计紧凑、高效——尺寸小,在室内就能批量处理样品。高10-1/2" (26.7cm) x 长14-3/4" (37.5cm) x 宽12" (30.5cm);箱内径4" (10.15cm),深6" (15.25cm);重32 lbs (14.5kg)。 RF监控器/安全信号——当RF放大器与反应器阻抗不匹配时,能发出声音信号。如果不对其进行调整,发电机会自动转换成脉冲模式,以避免RF管过热。 安全开关——检查样品时,能自动切断RF电源。 低功率下的等离子清洁。 可供选择的石英箱,可避免有活性的含氟气体(例如:CF4)“蚀刻”普通玻璃并使之霜化