TG-S7型磁钢旋转磁控溅射镀膜机综述
本机是我司新近开发的、采用独特的磁钢旋转的磁控溅射镀膜机,其特点是靶材利用率高,比常用磁控靶约可提高一倍,为一种新结构的磁控靶;而且镀膜的均匀性好,可不用工件转动机构。真空室为前开门箱式结构,真空室尺寸:Φ300mmX300mm。真空度:2X10-4Pa。 主要配置:磁控靶的直径为Φ110mm,,可镀3-4英寸基片;工件加热器在工件盘的上面,工件加热温度达600℃;配500W/RF磁控溅射电源一台,1000W/ DC磁控溅射电源一套。抽气系统配F-150分子泵,2XZ-9直联机械泵。 该机可供大专院校、科研所和工厂作教学和科研等用。